SMIC: 14 нм FinFET в производстве рисков; Первая китайская линия FinFET обеспечит доход к концу 2019 года

SMIC, крупнейший контрактный производитель полупроводников в Китае, объявил в этом месяце, что к концу года начнет коммерческое производство микросхем, используя свою 14 нм технологию производства FinFET. Это первая производственная линия FinFET в Китае, что делает ее заметным событием для страны, в которой уже находится значительное количество заводов, поскольку ведущие мировые производители никогда не устанавливали технологию FinFET в Китае по геополитическим и интеллектуальным причинам. SMIC, в свою очередь, похоже, ожидает довольно быстрого нарастания своего 14 нм узла, так как ожидает, что новая производственная линия внесет значительный вклад в ее доход до конца года.

Согласно SMIC, их 14 нм технология производства FinFET была разработана полностью собственными силами и, как ожидается, значительно увеличит плотность транзисторов, увеличит производительность и снизит энергопотребление микросхем по сравнению с устройствами, изготовленными с использованием 28 нм процесса компании, основанного на плоских транзисторах. , Ранее в этом году ожидалось, что SMIC начнет производство 14 нм чипов уже в первой половине 2019 года, поэтому фирма, похоже, немного отстает от графика. Тем не менее, собственная технология процесса FinFET является настоящим прорывом для относительно небольшой компании, которая превращает ее в клуб с пятью другими литейными цехами с технологиями FinFET.

Одна интересная вещь, о которой SMIC заявила о своем 14 нм спектре FinFET, заключается в том, что он ожидает, что процесс принесет значительный доход уже к концу года. Между тем, помня о том, что в настоящее время SMIC имеет только два относительно небольших 300-мм HVM-фабрики (которые в настоящее время используются для узлов с шириной от 28 до 65 нм), которые интенсивно используются и приносят 40 ~ 49% выручки компании (в первом / втором квартале). 2019), трудно представить, что SMIC будет загружать 14 нм чипы в 2019 году.

В начале этого года компания завершила строительство своего завода SMIC South FinFET стоимостью 10 миллиардов долларов, который будет использоваться в своих передовых производственных технологиях, и начала производство оборудования. Как только завод будет готов к коммерческим операциям, SMIC сможет значительно увеличить производство чипов, используя свои 14 нм, а затем и 12 нм технологии изготовления FinFET.

Долгосрочные планы SMIC включают производственные процессы 10 нм и 7 нм. Ожидается, что последний потребует использования инструментов экстремальной ультрафиолетовой литографии, поэтому в прошлом году SMIC приобрела систему пошагового сканирования EUV у ASML за 120 миллионов долларов, которая должна была быть поставлена ​​в 2019 году.

Связанное Чтение:

Источники: SMIC, DigiTimes